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            國內貿易 2023-05-15

            公司及下屬企業主營工業氣體(液氧、液氬、液氮、二氧化碳等)、危險化學品(氫氟酸、苯、硫酸)等化學品經營。高純氧氣體主要用于半導體器件的熱氧化、擴散、化學氣相沉積及等離子蝕刻等工藝,還可用于光導纖維、彩色顯像管制造并作標準氣、校正氣和零點氣等。作為氧化源與產生高純水的反應劑。對于MOS場效應器件,氧化層必須相當致密,采用高純氧氣進行干法氧化,其氧化層結構致密,正電荷少,耐壓高,能滿足生產需要。與四氟化碳混合,可用于等離子刻蝕。高純氬在半導體工業中用作生產高純硅和鍺晶體的保護氣體;可用作系統清洗、屏蔽和增壓用惰性氣體;在化學氣相沉積、濺射和退火等工藝中有所應用。高純氬可用作色譜載氣,也可用作大規模集成電路中混合氣體的稀釋氣。氬被廣泛用于充填弧光燈、熒光燈和電子管;焊接保護氣;在鈦、鈷及其他活性金屬的生產中用作屏蔽氣;在黑色冶金中,氬氣用于吹煉特種鋼,以提高鋼的質量,特別是不銹鋼制造中消耗大量氬氣。高純氮氣在集成電路、半導體和電真空器仵制造中用作化學氣相沉積時的載氣,液體擴散源的攜帶氣,高溫擴散爐中器件的保護氣等。顯像管制造中要求氮氣純度為99. 99%以上;而在集成電路制造中用作底氣的氮氣純度為99. 999%~99. 9999%,甚至更高。在某些金屬材料生產中,需用高純氮氣。

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